第352章 ?又一个重要节点（4 / 6）
看的他哈哈大笑，丝毫不在意。
七月中旬，已经回到申河的辛启天，带领数名启天科技兄弟姐妹，在相关领导陪同下，正在参观且指导申河微电子装备公司。
这家公司坐落于关湖高科技园区，与灵泉总部同属一个区域。
关湖高科技园区是老牌的高科技工业园区，面积极大。
启天科技园，从体系上更加独立。除了启天科技之外，基本没有其他公司，地区很小。可是，支持力度很大。
毕竟是搞出了量算的超级挂逼嘛。
申河微电子装备，是02年才组建的集团。邻近于好几个国家级基地。
目前来说，申河其实是华国半导体产业链最为完善的地方。当然，所谓的完善是相对的。和西方发达国家是比不了的。
此次这家企业，与许多机构、包括启天科技，智造公司合作。
将是光刻机设备的重要生产开发单位之一。
很多人可能不知道。事实上，华国早在60年代就曾，自主探索光刻机领域，且制造技术在当时世界各国中较为先进。
那时如今的光刻机巨头asml还没诞生。杰奔的nikon和canon于也仅仅，是60年代末才开始进入这个领域。
62年华国第一代硅平面晶体管问世。
平面工艺，主要就是利用光刻技术，和二氧化硅膜的掩蔽作用，来进行选择扩散和电极的蒸发。
随之而来的是65年，华国第一块集成电路问世。
基本说明，华国利用光刻技术，制造集成电路的时间线，可以推到60年代中期。
可见，华国光刻工艺的研究，虽比优丝稍晚，但跟杰奔差不多同时起步。
比丽棒、以及两制的太直岛早10年！
到70年代，华国电子元件的规模制造已在好些个城市开展。
72年，江城无线电元件三厂编写出版了《光刻掩模版的制造》。
65年，科学院研制出65型接触式光刻机。
随后，申河光学机械厂也试制成功了半自动接触式光刻机。
70年代，科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。
70年代末，科学院半导体所，开始研制jk-1型半自动接近式光刻机。并在81年研制成功两台样机，而且还在生产线中投入使用！
水木大学研制第四代分步式投影光刻机，且80年获得成功！
光刻精度达到3微米，接近当时得国际主流水平！
机电部45所也研制出了分步光刻机样机，采用436纳米g线光源。
然而，在80年代的时候。我们因为种种考虑。不得已，放弃了电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫下马。
之前所说的，江城无线电元件三厂，94年破产改制，卖副食品去了！
这些个种种，不论如何，确实令人很遗憾。 ↑返回顶部↑
七月中旬，已经回到申河的辛启天，带领数名启天科技兄弟姐妹，在相关领导陪同下，正在参观且指导申河微电子装备公司。
这家公司坐落于关湖高科技园区，与灵泉总部同属一个区域。
关湖高科技园区是老牌的高科技工业园区，面积极大。
启天科技园，从体系上更加独立。除了启天科技之外，基本没有其他公司，地区很小。可是，支持力度很大。
毕竟是搞出了量算的超级挂逼嘛。
申河微电子装备，是02年才组建的集团。邻近于好几个国家级基地。
目前来说，申河其实是华国半导体产业链最为完善的地方。当然，所谓的完善是相对的。和西方发达国家是比不了的。
此次这家企业，与许多机构、包括启天科技，智造公司合作。
将是光刻机设备的重要生产开发单位之一。
很多人可能不知道。事实上，华国早在60年代就曾，自主探索光刻机领域，且制造技术在当时世界各国中较为先进。
那时如今的光刻机巨头asml还没诞生。杰奔的nikon和canon于也仅仅，是60年代末才开始进入这个领域。
62年华国第一代硅平面晶体管问世。
平面工艺，主要就是利用光刻技术，和二氧化硅膜的掩蔽作用，来进行选择扩散和电极的蒸发。
随之而来的是65年，华国第一块集成电路问世。
基本说明，华国利用光刻技术，制造集成电路的时间线，可以推到60年代中期。
可见，华国光刻工艺的研究，虽比优丝稍晚，但跟杰奔差不多同时起步。
比丽棒、以及两制的太直岛早10年！
到70年代，华国电子元件的规模制造已在好些个城市开展。
72年，江城无线电元件三厂编写出版了《光刻掩模版的制造》。
65年，科学院研制出65型接触式光刻机。
随后，申河光学机械厂也试制成功了半自动接触式光刻机。
70年代，科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。
70年代末，科学院半导体所，开始研制jk-1型半自动接近式光刻机。并在81年研制成功两台样机，而且还在生产线中投入使用！
水木大学研制第四代分步式投影光刻机，且80年获得成功！
光刻精度达到3微米，接近当时得国际主流水平！
机电部45所也研制出了分步光刻机样机，采用436纳米g线光源。
然而，在80年代的时候。我们因为种种考虑。不得已，放弃了电子工业的自主攻关，诸如光刻机等科技计划被迫下马。
之前所说的，江城无线电元件三厂，94年破产改制，卖副食品去了！
这些个种种，不论如何，确实令人很遗憾。 ↑返回顶部↑