第345章 ?首要目标(2 / 4)

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  “极端紫外光刻技术所使用的光刻机的对准套刻精度要达到10nm,其研发和制造原理实际上和传统的光学光刻在原理上十分相似。”
  “对光刻机的研究重点,是要求定位要极其快速精密,以及逐场调平调焦技术。因为光刻机在工作时拼接图形,和步进式扫描曝光的次数很多。不仅如此,入射对准光波信号的采集,以及处理问题还需要解决。”
  “euv技术的进展还是比较缓慢的,投资巨大。当前,其实没有几家厂商,能够将这项技术应用于生产中。唯一的asml公司,做出来的东西,也仅仅算是勉强能用。”
  “各家厂商都清楚,半导体工艺向往下刻,使用euv技术是必须的。波长越短,频率越高,光的能量正比于频率,反比于波长。”
  “但是因为频率过高,传统的光溶胶直接就被打穿了。现在,半导体工艺的发展已经被许多物理学科从各个方面制约了。”
  “现在的问题的是,第一,euv光刻机造价太高,好几千万优元。”
  “第二,没有真正合适的光源。”
  “第三,没有合适的掩模。第四,未研发出合适的光刻胶!”
  “所以,我是打算,咱们可以在光源上,琢磨琢磨。”
  说道这里,辛启天颇有些意犹未尽舔了下嘴角,眼神放光的说道:“其实如果不考虑整体行业发展,我个人,更想去研究电子束光刻。”
  “用电子源发出电子束,经过掩膜和电子透镜,将图案投射到硅片上,从而形成电子线路!”
  “但是,电子束高精度扫描成像曝光效率低。在抗蚀剂和基片中的散射和背散射现象,造成的邻近效应。以及其他很多问题。”
  “整个行业,目光都不聚集在这里。”
  “领先一步是天才,领先十步就是疯子。”
  “不过,我对这东西,非常感兴趣。如果能做的好,可以应用于量子元器件等等生产。甚至,还可以搞粒子束武器。”
  停顿了片刻,最终,辛启天还是没有把内心深处的想法说出来。
  那就是,电子束如果技术进一步成熟,完备到最基础的粒子阶段。对于他搞出来的常温超导体生产制造,应该是有一定帮助。
  或许可以摆脱巨大能耗,来保持超导体状态的机器桎梏。
  当然,仅仅是有可能。
  在学习这些理论当中,辛启天的一点发散性思维罢了。他并没有完全深入去研究。
  一直以来,辛启天都不会很深入的脱离现实,去研究高深的理论知识。
  相比于科学家来说,辛启天更像是一个工程师!他最童真的愿望,就是制造出各种幻想当中的机器。而不是单纯在理论中,寻找未来的理论。
  最初研究量算,是因为辛启天必须寻找,拿出一个有力的成果,来增加自己强大的底气和实力。
  东西是研究出来的,但完全没有市场应用效应。一台大型量算,造价高达近百亿优元。运行中,每年也得好几十亿投进去。
  根本就是入不敷出。
  如果没有ai的加成,如果不是辛启天开挂。这东西运行起来,也不一定能够帮助科学发展。
  开机一段时间,消耗的投资,根本不足以正常科学家进行任何有效的研究。完全浪费资金!
  qlts量算出来了好些年。
  可是受制于现实科学技术因素,辛启天一直无法真的有效解决应用的问题。
  单一的微型量子元器件,他都不知道该怎么生产出来。 ↑返回顶部↑

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