重生2011，二本捡漏985 第882节（4 / 4）
后续不断迭代升级，逐步提高精准度，达到10纳米，7纳米，不在话下。
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式duv 1250i，最初也是造45纳米芯片的。
后续不断对duv光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。
这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。
前世duv国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。
若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。
十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。
但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产duv都得不断升级。
因此，国产duv迟迟不推出，就是在憋大招。 ↑返回顶部↑
毕竟阿斯麦2003年推出了第一代浸没式duv 1250i，最初也是造45纳米芯片的。
后续不断对duv光刻机的光源、光学系统、套刻精度、温控等方面，进行全方位升级。
这才逐渐实现了32-28纳米工艺，以及后续的20-16纳米工艺，再到10纳米节点、7纳米节点，以及十年后的5纳米节点。
前世duv国产光刻机之所以迟迟不量产，主要原因就是要求高，起步高。
若是只能量产45纳米，那意义不大，推出了也没多少企业用。
十年后，缺的是高端光刻机，不是45纳米的光刻机。
但要想量产7纳米，甚至5纳米，那难度就大了，国产duv都得不断升级。
因此，国产duv迟迟不推出，就是在憋大招。 ↑返回顶部↑